玻璃鍍膜技術(shù)的原理主要從以下幾方面來理解。

鍍膜玻璃是在玻璃表面涂鍍一層或多層薄膜的玻璃，鍍膜材料可以是金屬、合金或金屬化合物等。鍍膜的方式多樣，常見的有真空磁控濺射法、化學(xué)氣相沉積法等。

真空磁控濺射鍍膜玻璃是利用磁控濺射技術(shù)，將鍍膜材料逐層濺射沉積到玻璃表面形成薄膜?；瘜W(xué)氣相沉積法是在浮法玻璃生產(chǎn)線上通入反應(yīng)氣體，在灼熱玻璃表面分解并均勻沉積形成鍍膜。

在鍍膜過程中，薄膜的形成通常通過蒸發(fā)、濺射或化學(xué)反應(yīng)等手段，將鍍膜材料轉(zhuǎn)化為氣態(tài)分子或原子，然后這些氣態(tài)物質(zhì)在玻璃表面冷凝形成均勻薄膜。薄膜厚度一般在幾十到幾百納米之間，屬于納米級薄膜，其厚度和均勻性直接影響玻璃性能。

鍍膜玻璃根據(jù)特性可分為熱反射玻璃、低輻射玻璃、導(dǎo)電膜玻璃等。熱反射玻璃通過在表面鍍一層或多層金屬或其氮氧化物來著色，能反射或吸收太陽光熱輻射能，減輕制冷或采暖設(shè)備工作量，還能保持良好透光性，對紅外線反射率一般為 30%到 40%，高者可達 60%。

低輻射玻璃利用薄膜干涉原理，根據(jù)鍍膜材料折射率不同，通過薄膜表面反射，使某些波長的光因干涉而加強，另一些因干涉減弱來鍍膜。它對紅外熱輻射有良好阻隔削弱特性，常用來制造中空玻璃以降低熱傳遞性。

此外，玻璃鍍膜的增透原理是光在從一種物質(zhì)進入另一種物質(zhì)，只要密度不同就會產(chǎn)生折射和反射，從折射率較小的物質(zhì)入射到折射率較大的物質(zhì)表面時，反射光發(fā)生方向變化，基于此可增加光線的透射率。